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RIT社X線用オプティクス(X線多層膜ミラー X線多層膜モノクロメーター X線集光・結像光学系)

EUV・X線多層膜ミラー X線多層膜モノクロメーター X線集光・結像光学系

RIT社X線用オプティクス(X線多層膜ミラー X線多層膜モノクロメーター X線集光・結像光学系) リガクイノベーティブテクノロジーズ(RIT)社

リガクイノベーティブテクノロジーズ(RIT)社は、その前身Osmic社において長年にわたり蓄積された多層膜コーティング技術に基づき、X線に関連した研究分野の発展・拡大に貢献しています。
シンクロトロン用モノクロメータ、中性子導波路、偏光子をはじめ、研究用途に応じてカスタマイズされた高品質オプティクスをご提供します。

**2014年初頭、最大径750mmのEUVコレクターミラーのコーティングに対応した新ラインが増設されました。

X線用オプティクスの製品カテゴリ
X線多層膜ミラー X線多層膜モノクロメーター X線集光・結像光学系の製品カテゴリ


X線用オプティクスのコーティング特性

OsmicOptimized™ …
多層膜コートオプティクスの先駆Osmicブランドに基づく、独自コーティングの商標です。
25年を越える経験と技術の蓄積は、高い品質・信頼性を実現し、研究用途に最適化された多様なオプティクスに活かされています。

波 長 0.2〜300Å, 40eV 〜 60keV
周 期 Dmin = 1nm, dmax > 50nm
周期数 Nmax = 1000
分解能 λ /λ = 0.2% 〜 20%
サイズ 長さ 3mm 〜 1.3m
材 料 W/Si, W/C, Ni/Ti, Ni/B4C, Ni/C, Cr/C, Cr/Sc, Mo/Si, 
Mo/B4C, La/B, V/C, Ru/B4C, Al2O3/B4C, SiC/Si, 
Si/C, SiC/C, Fe/Si, Cr/B4C, Si/B4C etc.
デザイン ・均一 / グレード周期長: ラテラル、ラディアル、2D
・d グレード: スーパーミラー& high-selective
・平面 / 曲面
・斜入射(<1°) 〜 直入射

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X線用オプティクスのニュートロン用 オプティクス
導波路 - 直線
◯ NiC-Ti スーパーミラー(SM)コーティング m=3
◯ 断面積75mm×75mm
◯ 表面粗さ ≦0.15mrad
◯ 平行 ≦0.10mrad
◯ (typical)基板: ホウ素、 フロートガラス
タイプ 有効レンジ
Θ c(°/Å)
反射率%
(@cmax)
反射率%
(平均)
Ni コーティング 0 - 0.1 99  
Ni 58 equiv. SM 0 – 0.12 98  
SM-1, m=2 0 – 0.2 92  
SM-2, m=3 0 – 0.3 90 95
SM-3, m=3 0 – 0.3 80 90
SM-20% BP 0.27 – 0.33 85 85
SM-10% BP 0.285– 0.315 90 90
※ その他、テーパー/カーブ導波路等についてはお問合わせください。

ポラライザ、モノクロメータ
◯ Fe- Si スーパーミラー(SM)コーティング m=3
◯ 基板材料、サイズ多数
◯ 透過率(eff) >95%
タイプ 有効レンジ
Θ c(°/Å)
反射率%
(@cmax)
透過率% 偏光効率%
SM, m=2 0 – 0.2 92 70 97
SM-3, m=3 0 – 0.3 85 70 95
SM-20% BP 0.27 – 0.33 90 92  
SM-10% BP 0.285– 0.315 90 92  

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X線用オプティクスのシンクロトロン用 オプティクス
Double bounce 多層膜モノクロメータ −DMM
高フラックスを得るには、DMM 構造が効果的です。一般に、d 値(周期膜厚)が大きいほど、高い利得が得られますが、d の最大値は分解能条件によって異なります。
◯標準タイプ ‐ フォトンエネルギーレンジ : 〜5keV 〜100keV
‐ d-spacing レンジ : 〜10Å 〜100Å
‐ d-spacing マッチング(2 mirror set) : ≦1%
‐ bi 層数 : 最大1000
‐ サイズ : 最大1.3m × 0.4m
【例:W/B4C, Mo/B4C】
タイプ ML 材質 2d(Å) 反射率%
(CuKa)
僞/E(%)
DMM30W W-B4C 30 50-60 0.5
DMM50W W-B4C 50 70-80 1.5
DMM60A W-Si 60 70-80 2
DMM30H Mo-B4C 30 40 0.3
DMM40H Mo-B4C 40 60 0.6
DMM50H Mo-B4C 50 70 1.0
DMM60H Mo-B4C 60 75 1.5
※ご用途にあわせて上記以外の材質も選択可能です。詳しくはお問合わせください。

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X線用オプティクスのカスタムオプティクス
【カスタム】 Striped Double bounce 多層膜モノクロメータ −sDMM
実 例
4-striped DMM ‐ エネルギーレンジ:7keV 〜16keV(Fixed angle of 1deg.)
‐ d-spacingレンジ: 23Å 〜53Å
‐ B4C、SiC、Si、C、Al2O3などの低吸収材料により〜0.2%から
 〜0.6%の選択性を達成
3-striped DMM ‐ エネルギーレンジ:9keV 〜30keV
‐ 1st stripe:Si(111)結晶 〜1.5E-2%バンドパス
‐ 2nd stripe:Mo-B4C ML 〜1.5%バンドパス
‐ 3rd stripe:Mo-B4C DグレードML 〜10%バンドパパス
【カスタム】 ワイドバンドパス モノクロメータ
実 例
5%、10%
バンドパスDMM
‐E=12keV、θ=1deg.
 僞/E= 5%:僞=11.4keV – 12.6keV
 僞/E=10%:僞=10.8keV – 13.2keV
‐dグレード:バンドパスの条件に合わせて、Mo/B4C膜を2種類の
 dグレードで構成
‐d-spacing平均:30Å
‐bi層数: いずれもN=100

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リガクイノベーティブテクノロジーズ(RIT)社 RIT(Rigaku Innovative Tecnologies, Inc.,)
リガクイノベーティブテクノロジーズ社
米国 ミシガン州